Учебное пособие: Методические указания и контрольные задания для студентов заочной и дистанционной форм обучения Авторы составители: к т. н., доцент Рудь В. В
Название: Методические указания и контрольные задания для студентов заочной и дистанционной форм обучения Авторы составители: к т. н., доцент Рудь В. В Раздел: Остальные рефераты Тип: учебное пособие | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
Негосударственное образовательное учреждение Институт «ТЕЛЕИНФО» Физические основы электроники (ФОЭ) Методические указания и контрольные задания для студентов заочной и дистанционной форм обучения Авторы составители: к.т.н., доцент Рудь В.В. Редактор: д.т.н., профессор Сподобаев Ю.М. Рецензент: д.т.н., профессор Логинов Н.П. Самара, 2004 Физические основы электроники (ФОЭ) Задание к выполнению контрольной работы Целью данной контрольной работы является изучение электрофизических свойств и параметров собственных и примесных полупроводников и электронно-дырочных (p - n ) переходов, изготовленных на их основе, а также приобретение навыков их расчёта. 1. Исходные данные 1.1. Материал полупроводника – германий (Ge ) или кремний (Si ). 1.2. Концентрации примесей: в электронном полупроводнике –и в дырочном полупроводнике – . 1.3. Рабочая температура t – в 0 С. 1.4. Приложенное к электронно-дырочному переходу напряжение – U , В. 2. Задание контрольной работы В соответствии с исходными данным необходимо выполнить следующие расчеты для электронно-дырочного перехода. 2.1. Определить равновесные концентрации подвижных носителей зарядов – в собственном полупроводнике. 2.2. Найти концентрации основных : и неосновных , носителей зарядов в примесных полупроводниках. 2.3. Определить положение уровня Ферми в собственном, электронном и дырочном полупроводниках и построить энергетические (зонные) диаграммы полупроводников в масштабе по оси энергий. 2.4. Определить энергетический и потенциальный барьеры, возникающие при образовании идеального электронно-дырочного перехода в состоянии равновесия. 2.5. Объяснить образование электронно-дырочного перехода. 2.6. Определить ширину идеального электронно-дырочного перехода в состоянии равновесия. 2.7. Построить в масштабе энергетическую (зонную) диаграмму идеального электронно-дырочного перехода в состоянии равновесия. 2.8. Определить ширину электронно-дырочного перехода при подаче на идеальный переход внешнего напряжения U . 2.9. Построить в масштабе энергетическую (зонную) диаграмму идеального электронно-дырочного перехода при подаче на него прямого или обратного напряжения U . 3. Выбор варианта задания для контрольной работы Студенты, имеющие нечетную предпоследнюю цифру студенческого билета, выполняют задание с использованием полупроводников на основе кремния, а имеющие четную цифру – с использованием полупроводников на основе германия (см. табл. 1). Основные их параметры при температуре Т=3000 К приведены в табл. 2. Таблица 1. Выбор исходных данных к выполнению контрольной работы
4. Перечень формул к выполнению контрольной работы 4.1. Для собственного (чистого) полупроводника Для собственного (чистого или идеального) полупроводника равновесные концентрации электронов и дырок ni =pi определяются выражением , (1) В выражении (1) ΔW = – ширина запрещенной зоны полупроводника, и - «дно» зоны проводимости и «потолок» валентной зоны соответственно, k – постоянная Больцмана, равная k =1,3805*10-23 Дж/0 К, Т – абсолютная температура в градусах Кельвина (T =t + 2730 К), N – среднее геометрическое значение эффективных плотностей энергетических состояний в зоне проводимости и валентной зоне , т.е. плотность разрешенных уровней энергии (которые могут занимать электроны). Их численные значения определяются выражениями , , (2) . (3) В выражениях (2) и (3) и - эффективные массы соответственно электрона и дырки, определяемые по данным табл. 2, h – постоянная Планка, h =6,6262*10-34 Дж*с. Уровень Ферми в собственном полупроводнике находится в середине запрещённой зоны и определяется выражением , (4) В выражении (4) WE – так называемый электростатический уровень (т.е. уровень, соответствующий середине ширины запрещённой зоны). 4.2. Для примесных полупроводников В случае примесных полупроводников концентрации подвижных носителей зарядов n и p определяются известным соотношением концентраций подвижных носителей зарядов . (5) В рабочем диапазоне температур практически все атомы примеси оказываются ионизированными, поэтому с учётом того, что на практике концентрации примесей выбираются из условий Nd >> ni , и Na >>р i , для концентраций основных носителей зарядов полупроводников n и p типов с весьма высокой степенью приближения соответственно выполняются условия nn ≈ Nd и pp ≈ Na . Тогда с учётом (5) соотношения для концентраций неосновных носителей зарядов принимают вид (6)и . (6) Уровни Ферми в примесных полупроводниках определяются выражениями , (7) . (8) В выражениях (7) и (8) WFn – уровень Ферми в электронном полупроводнике, WFp – уровень Ферми в дырочном полупроводнике, Nd – концентрация донорной примеси, Na – концентрация акцепторной примеси. Сравнение выражений (4), (7) и (8) показывает, что уровни Ферми собственного и примесных полупроводников неодинаковы. Иначе говоря, между ними существует следующее соотношение WFn > WFi > WFp . (9) 4.3. Для электронно-дырочного ( p - n ) перехода При образовании двухслойных контактов (переходов) p- i , i- n или p- n между полупроводниками, образующими их, в результате перераспределения подвижных носителей зарядов происходит выравнивание уровней Ферми, т.е. в каждом случае формируется уровень Ферми единый для всего контакта. В результате на границе раздела в контактах происходит деформация энергетических зон и образование энергетического и потенциального барьеров (контактной разности потенциалов). Их величины и знаки можно определить с учётом (4) и (7…9). В случае электронно-дырочного перехода энергетический барьер определится в виде . (10) В выражении (10) Wcp и Wcn , – границы между зонами проводимости («дно» зон проводимости) и запрещённой зоной областей p и n электронно-дырочного перехода, а Wvp и Wvn – границы между валентными зонами («потолок» валентных зон) и запрещённой зоной областей p и n . Высота потенциального барьера (контактная разность потенциалов) в идеальном электронно-дырочном переходе в состоянии равновесия и отсутствии внешнего напряжения равна . (11) В выражении (11) e – заряд электрона, e =1,6022*10-19 Кл (без учёта знака). Ширина идеального электронно-дырочного перехода в состоянии равновесия δ0 определяется выражением (12) , (12) где – абсолютная диэлектрическая проницаемость полупроводника, ε0 – универсальная физическая постоянная (или диэлектрическая проницаемость вакуума), равная ε0 =0,885*10-13 Ф/м , ε –относительная диэлектрическая проницаемость полупроводника, определяемая из табл.2. 4.4. Для p - n перехода, смещённого внешним напряжением U При подаче внешнего напряжения высота потенциального барьера в идеальном p-n переходе становится равной φ = φk – U , (обратное напряжение берется со знаком –). В этом случае высота энергетического барьера p- n перехода станет равной (13)(13) Ширина идеального электронно-дырочного приобретает вид (14). (14) Смещение уровня Ферми в пределах p - n перехода определится выражением (15) . (15) Равновесное состояние p-n перехода нарушается и через него преимущественно протекают либо диффузионные потоки основных зарядов (при U >0), либо дрейфовые потоки неосновных зарядов (при U <0). 5. Методические указания к выполнению работы 5.1. При выполнении расчётов следует учитывать, что параметры полупроводников приведены в табл. 2 для температуры Т =3000 К. Поэтому при расчёте равновесных концентраций собственного полупроводника по формуле (1) необходимо учитывать температурные зависимости эффективных плотностей N , Nc и Nv , пользуясь выражениями (2,3,4), а также температурную зависимость ширины запрещённой зоны ΔW . 5.2. Ширину запрещённой зоны ΔW для германия при температурах выше 2000 К можно определить по эмпирической зависимости ΔW =0,782 – 3,9·10-4 ·Т (эВ). 5.3. Для ширины запрещённой зоны кремния при температурах выше справедливо аналогичное соотношение ΔW =1,205 – 2,84·10-4 ·Т (эВ). 5.4. Вычисленные по п.п. 5.2 и 5.3 значения ΔW при подстановке в формулу (1) следует из эВ перевести в джоули, умножив их на заряд электрона е . 5.5. При вычислении уровней Ферми и построении энергетических диаграмм электронного и дырочного полупроводников, а также электронно-дырочного перехода необходимо в каждом случае их отсчёт производить не от уровня W =0, а от нижнего уровня зоны проводимости Wc каждой (n или p ) областей полупроводника. Тогда выражения (4), (7) и (8) преобразуются соответственно к виду , (41 ) , (71 ) . (81 ) 5.6. При построении энергетических (зонных) диаграмм рекомендуется для всех энергетических уровней использовать единицу измерения – эВ. Таблица 2. Основные параметры Ge , Si и GaAs
5. Литература 1. Петров К.С. Радиоматериалы, радиокомпоненты и электроника: Учебное пособие/ – СПб. Питер, 2003. – 512 с.: ил. 2. Пасынков В.В., Чиркин Л.К. Полупроводниковые приборы: Учебник для вузов. 7-е изд., испр. – СПб.: Издательство «Лань», 2003. – 480 с.: ил. – (Учебники для вузов. Специальная литература). 3. Батушев В.А. Электронные приборы: Учебник для вузов. – 2-е изд., перераб. и доп. – М: Высш. шк., 1980. – 383 с.: ил. 4. Электронные приборы: Учебник для вузов/ В.Н. Дулин, Н.А. Аваев, В.П. Дёмин и др.; Под ред. Г.Г. Шишкина. – 4-е изд., перераб. и доп. . – М: Энергоатомиздат, 1989. – 486 с.: ил. 5. Фридрихов С.А. Мовнин С.М. Физические основы электронной техники: Учебник для вузов. – М.: Высш. шк., 1982. – 608 с.: ил. 6. Степаненко И.П. Основы микроэлектроники: Учеб. пособие для вузов. – 2-е изд., перераб. и доп. – М.: Лаборатория базовых знаний, 2000. – 488 с.: ил. 7. Пасынков В.В., Сорокин Материалы электронной техники: Учебник. 5-е изд., стер. – СПб.: Издательство «Лань, 2003. – 368 с., ил. – (Учебники для вузов. Специальная литература). 8. Андреев В.М. и др. Материалы микроэлектронной техники: Учеб. пособие для вузов. – М.: Радио и связь, 1989. 9. Бреус. А.И. Физические основы электроники.: Конспект лекций. – Самара: 2003. – 58 с.: ил. 10. Логинов Н.П., Рудь В.В., Маслов М.Ю., Ситникова С.В. Химия радиоматериалов: Методические указания и контрольные задания для студентов дневной, заочной и дистанционной форм обучения всех специальностей по направлению «Телекоммуникации». – Самара: ПГАТИ, 2003. – 18 с.: ил. 11. Рудь В.В., Коновалов А.П., Луппов А.Н., Ситникова С.В. Методическая разработка по темам лабораторных модулей 3,4,5. Исследование полупроводниковых приборов. – Самара: ПГАТИ, 1995. – 102 с.: ил. ПРИЛОЖЕНИЕ Значения энергии ионизации (активации) примеси различного типа
Полупроводник электронного типа
Полупроводник дырочного типа
|